エキシマレーザー

エキシマレーザー えきしまれーざー

 exicimae laser。 希ガスエキシマ、希ガスハライド、水銀ハライドなどのヘテロエキシマを動作媒質とするレーザー。希ガスとハロゲンの混合気体中の放電、または電子ビーム照射によって生じる励起状態のエキシマ(励起状態の原子または分子と基底状態の原子または分子の結合した2量体、種類の異なる2個の原子・分子からなるものはヘテロエキシマと呼ばれる)が基底状態に戻るときの誘導放出によって、短波長可視域、紫外または真空紫外域で光をパルス発振する。例えば、KrFで248nm、XeClで308nm、ArFで193nmなどのレーザー光が、数nsのパルス幅で数MW以上の先頭出力で高い繰り返し周波数で得られる。また、平均出力も大きい。光化学、表面処理、微細加工、化学プロセスなどの分野で重要性が高まっている。また、紫外分光の光源としても利用されている。


<登録年月> 1998年04月

<用語辞書ダウンロード>PDFダウンロード



JAEA JAEAトップページへ ATOMICA ATOMICAトップページへ